鍍膜儀當接通高壓，陰極發射電子，電子能量增加到1-3kev，轟擊低真空中（3-10pA)的氣體，使其電離，激發出的電子在電場中被加速，繼續轟擊氣體，產生聯級電離，形成等離子體。離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶，當其能量高于靶材原子的結合能時，靶材原子或者原子簇，脫離靶材，又經過與等離子體中的殘余氣體碰撞，因此方向各異，當落在樣品表面時，可以在粗糙的樣品表面形成厚度均一的金屬薄膜，而且與樣品的結合強度高。如果工作室中的氣體持續流動，保持恒定壓力，這時的離子流保持恒定。高壓的功率決定了大離子流，一般有大離子流限制，用于保護高壓電源。

　　鍍膜儀的一般故障處理：

　　1.使用一段時間后濺射電流變小

　　處理：對靶材有無變色、破裂和油污等現進行檢查。前兩者對靶材進行更換，后者被油蒸汽污染，通過無水乙醇進行清潔，等干了后才能夠抽真空。

　　2.使用一段時間后有過低的真空

　　處理：對濺射室中或管道內是否有油進行檢查，能夠使用汽油進行清洗。

　　3.濺射電流忽高忽低

　　處理：陰極罩與靶的固定環有著過近的距離，將陰極罩逆時針旋轉，對間距進行調整。

　　4.有著過低的真空

　　處理：將放氣閥、漏氣閥和觀察泵的油窗液面旋緊。